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    樂翔告訴你金屬蝕刻加工前處理曝光量的控制

    來源: 作者:Admin 時間:2012/11/24 15:42:00 查看:
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          曝光時間控制(曝光量的控制):在曝光過程中干膜的聚合反響并不是在霎時完成,而是經(jīng)過以下過程完成。
          干膜中由于存在氧或其他有害雜質(zhì)的障礙,在曝光過程中需求經(jīng)過一個誘導(dǎo)的過程,在該過程內(nèi)引發(fā)劑合成產(chǎn)生的游離基被氧和雜質(zhì)所耗費,單體的聚合甚微。
          當誘導(dǎo)期一過,單體的光聚合反響很快停止,膠膜的a度疾速增加,接近于突變的水平,這就是光敏單體急驟耗費階段,這個階段在曝光過程中所占的時間比例很小。當光敏單體大局部耗費完時,就進人了單元體耗盡區(qū),此光陰聚合反響曾經(jīng)完成。
          正確控制曝光時間是取得優(yōu)秀干膜抗蝕圖像十分重要的要素。當曝光缺乏時,由單體聚合不徹底,在顯影過程中,膠膜溶漲變軟,線條不明晰,色澤暗淡,以至脫膠,在蝕刻 過程中或電鍍過程中,膜起翹,滲鍍,以至零落。
          當曝光過度時,會形成難于顯影。膠膜發(fā)脆,留下殘膠等弊病。更為嚴重的是不正確的曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏向,過量的曝光會使圖形電鍍的線條變細,使印制電路板蝕刻 的線條變粗。反之,曝光缺乏使圖形電鍍的線條變粗,使印制電路板蝕刻 的線條變細。要得到正確的曝光量,就需求肯定一個最佳的曝光時間。
          曝光時間確實定.在條件允許的狀況下可采用瑞斯頓17級或斯圖費21級光密度尺來停止計算。在無光密度尺時,也可憑經(jīng)歷停止察看,用逐步增加曝光時間的辦法,依據(jù)顯影后干膜的光亮水平,圖像能否明晰,圖像線寬能否與原底片相符等來肯定恰當?shù)钠毓狻?img alt="" src="/upfile/2012112415453120869.jpg" />
          不論采用哪種辦法來肯定的曝光時間,都是樹立在燈管光強度恒定的狀況下才是有意義的。隨著燈管的老化,光強度會降低,這時原先肯定的曝光時間就應(yīng)依據(jù)實踐狀況停止調(diào)整。如今一些先進的曝光設(shè)備都會運用光能量積分儀來計量曝光。其原理是當光強
          發(fā)作變化時,能自動調(diào)理曝光時間,使總曝光量堅持不變。
          安平縣樂翔精密蝕刻廠是一家專業(yè)生產(chǎn)、銷售化學(xué)蝕刻精密微孔篩板、、數(shù)控沖孔網(wǎng)、過濾器及絲網(wǎng)深加工的廠家。主要產(chǎn)品有:石油防沙管,蝕刻微孔網(wǎng),印刷網(wǎng),音箱網(wǎng),手機喇叭網(wǎng),流道槽,摩擦片,支撐架,電路板,電子配件,金屬銘牌,標牌及不銹鋼蝕刻工藝品、數(shù)控圓孔網(wǎng),沖孔網(wǎng)及過濾網(wǎng)筒、過濾器等絲網(wǎng)深加工產(chǎn)品。以上產(chǎn)品如有需要請與我廠聯(lián)系,電話:13780282888